真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)

是一款專(zhuān)為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)的薄膜制備設(shè)備，廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校、科研院所的膠體或溶液涂覆工藝。以下為詳細(xì)介紹：

一、核心功能與特點(diǎn)

1. 薄膜均勻涂覆
   通過(guò)高速旋轉(zhuǎn)（500-8000rpm）使粘滯性較高的膠體、溶液等材料均勻分布在樣品表面，適用于半導(dǎo)體、晶體、制版等精密涂覆場(chǎng)景

2. 真空吸附固定
   采用真空吸盤(pán)（標(biāo)配?25mm、?50mm、?100mm聚丙烯吸盤(pán)）固定樣品，操作簡(jiǎn)便且穩(wěn)定性高，減少偏心導(dǎo)致的震動(dòng)或飛片問(wèn)題

3. 雙段程序控制
   支持兩段速度控制：第一段低速注膠，第二段高速勻膠，提升涂層均勻性；時(shí)間設(shè)置范圍為1-60秒

4. 耐腐蝕與低噪音設(shè)計(jì)

• 鑄鋁機(jī)身結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，運(yùn)行噪音低

• 可選聚四氟乙烯或鋁合金吸盤(pán)，適配強(qiáng)酸/堿性溶液環(huán)境

二、技術(shù)參數(shù)

• 電源要求：AC220V 50Hz，功率148-150W，需良好接地

• 轉(zhuǎn)速范圍：500-8000rpm（精度±1%）

• 真空泵流速：≥60L/min（標(biāo)配無(wú)油真空泵，環(huán)保易維護(hù)）

• 環(huán)境條件

• 海拔≤1000m，溫度5-40℃，濕度≤85%RH

• 工作臺(tái)需承重50kg以上，尺寸600×600×700m

三、設(shè)備結(jié)構(gòu)與配件

1. 標(biāo)準(zhǔn)配置

• 真空吸盤(pán)（3種尺寸）、滴液器、無(wú)油真空泵、橡膠管等

2. 可選配件

• 微型吸盤(pán)、過(guò)濾器、移液器（進(jìn)口/國(guó)產(chǎn)）、特殊材質(zhì)吸盤(pán)（如聚四氟乙烯）

3. 尺寸與重量

• 主機(jī)尺寸400×300×200mm，重量20kg

四、典型應(yīng)用場(chǎng)景

• 科研領(lǐng)域：半導(dǎo)體薄膜、光學(xué)鍍膜、電池電極涂覆等

• 教學(xué)實(shí)驗(yàn)：材料科學(xué)、化學(xué)實(shí)驗(yàn)室的薄膜生成與均勻性研究

五、操作與維護(hù)

• 安全性：具備開(kāi)蓋保護(hù)功能，運(yùn)行中開(kāi)蓋即自動(dòng)減速停機(jī)

• 維護(hù)建議：定期清潔吸盤(pán)與腔體，檢查真空泵過(guò)濾裝置

更多技術(shù)細(xì)節(jié)或供應(yīng)商信息可參考搜索結(jié)果中的具體鏈接

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